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On cell：面上触控，在显示屏彩膜基板与偏振片之间嵌入触摸传感器实现触屏功能的方法。
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Open-cell：未加背光的液晶面板。PCB bonding等工序完成但无背光模块的液晶盒。
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Oxide：氧化物。在平板显示产业有时作为金属氧化物半导体（如IGZO）的简称。
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P
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Panel：面板/屏。显示器的核心显示部件，在外围电路信号控制下，可以产生所需要的图形。由于TFT-LCD本身不发光，仅仅是控制透光状态，因此要想形成有效的发光显示，还需要把液晶屏和背光源组装在一起。TFT-LCD工艺过程中，液晶盒贴敷偏光片后即可具备图形产生功能。
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PDP（Plasma Display Panel）：等离子体显示屏。它是利用等离子放电原理设计制作的显示屏，曾经被认为是可以在TV等大尺寸应用领域与液晶显示技术分庭抗礼的平板显示技术，但最后由于液晶显示技术的迅速发展，PDP技术受到挤压而被边缘化。
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PPI（Pixel Per Inch）：每英寸像素点。像素是指显示器成像的最小的点。
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PR胶（Photo Resist）：光刻胶。
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PVX层（passivation）：钝化层。电子器件、集成电路或平板显示器阵列基板上，为实现电气绝缘或与周边环境隔离，以确保器件和电路的工作稳定，采用特性相对稳定的绝缘材料制作的薄膜。在平板显示技术中，通常采用PECVD淀积的氮化硅、氧化硅或涂敷的有机材料制作钝化层。
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Q
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QHD（Quad High Definition）：四倍高清显示。见HD词条。
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QUHD（Quad Ultra High Definition）：四倍超高清显示。见HD词条。
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qVGA（quarter Video Graphics Array）：四分之一视频图形阵列。见VGA词条。
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S
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SED（Surface-conduction Electron-emitter Display）：表面传导电子发射显示器。它是场致发射显示器（FED）技术的一种。相比采用微加工工艺制作核心阴极结构的主流FED技术，SED技术理论上更适合制作大面积显示器。2002年前后是由佳能公司推出原型样品，并宣布计划与东芝成立合资公司进行商业化生产的计划。但由于技术本身存在的问题和其他方面的原因，该技术未能实现量产。
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SKD（Semi-Knocked Down）半散装件。
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Sputter：溅射机。它是利用等离子将靶材物质溅镀到玻璃基板表面成膜的设备，在平板显示产业中常用于在玻璃基板上形成金属薄膜或金属氧化物（ITO、IGZO等）薄膜。磁控溅射有利于提高等离子体密度，从而提高溅射效率。
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STN-LCD（Super Twisted Nematic Liquid Crystal Display）：超扭曲向列型液晶显示器。超扭曲向列的显示类型是指液晶分子约180°—270°扭曲取向的液晶显示模式。参见TN-LCD词条。
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T
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TFT-LCD（Thin Film Transistor Liquid Crystal Display）：薄膜晶体管液晶显示器，它是使用薄膜晶体管（TFT）驱动液晶以实现显示的技术。
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TN-LCD（Twisted Nematic Liquid Crystal Display）：扭曲向列型液晶显示器。20世纪70年代初，TN模式液晶显示器即在瑞士和美国获得专利，并推出显示产品。1973年日本夏普公司将其应用于电子计算器，开启了液晶在显示行业大量应用的时代。常见的计算器、电子表等字符显示器以及电脑监视器采用的TFT-LCD等均采用TN模式液晶显示器。TN模式液晶显示器中，棒状液晶分子平行于基板排列，上、下基板间液晶分子的指向逐步转向，扭曲了90度。上下基板电极施加电场时，液晶分子不同程度地从平行于基板转换到与基板成一定角度，从而控制透光状态的变化。TN液晶显示虽然因工艺成熟得到大量应用，但由于视角特性差，在电视、高端笔记本和手机应用中，逐步被IPS或MVA模式类的液晶显示技术替代。
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Touch：触控。
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TPC（Tablet Personal Computer）：平板电脑，即形状呈平板状的便携式电脑，典型产品是苹果公司的iPad。
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TTL电路（Transistor-Transistor Logic）：晶体管-晶体管逻辑电平。T-con输入端信号传输方式，为高电平的数据传输方式，以并行方式直接传输RGB数据。
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TV（Television）：电视。
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